高圧装置と研究内容

高圧装置

　高圧処理で利用する圧力は、一般的には100MPa以上であり、 密閉容器中で静水圧を利用します。圧力容器の中は、パスカルの法則（※１）により 、どの部分も瞬時に加圧されます。

　既存の高静水圧装置は図のようになっています。

　(a)は直接加圧方式と呼ばれ、ピストンによって圧力容器内の圧媒を直接加圧するものです。小容量・高静水圧(400MPa以上)のタイプに適します。

　(b)は間接加圧方式と呼ばれ、高静水圧ポンプによって圧力容器内に圧媒を送り込んで加圧するもので、大容量・低圧力(400MPa以下)に適します。

※１：パスカルの法則

　一定の容器内部に非圧縮性流体を満たしてある面に圧力をかけたとき、重力の影響が無ければ、つまり液面から同じ深さの地点同士ならばそれらの点には等しい圧力が加わるという原理。

　例えば、右図のようなU字型の管を用意して水を注ぐと2つの水面ができます。一方の水面に押し下げるように圧力を加えると、もう一方の水面にも同等の圧力が加わります。この例では水面を固定していないので、圧力にしたがって水面が押し上げられることになります。